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技術(shù)文章

Technical articles

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  • 20241-23
    真空冷阱表面為什么會(huì)有水

    1、空氣的液化溫度取決于空氣的組成成分。一般來(lái)說(shuō),空氣主要由氮?dú)?、氧氣和少量其他氣體組成。在標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下(約為1個(gè)大氣壓,相當(dāng)于101.325千帕),液態(tài)氮的沸點(diǎn)約為-196攝氏度(-321華氏度),液態(tài)氧的沸點(diǎn)約為-183攝氏度(-297華氏度)。因此,空氣的液化溫度應(yīng)該在這兩個(gè)溫度之間。請(qǐng)注意,這些數(shù)值是在標(biāo)準(zhǔn)條件下給出的,實(shí)際情況可能會(huì)受到氣壓和空氣成分的變化而有所不同。2、當(dāng)空氣的溫度降低到液氮的沸點(diǎn)-196攝氏度(-321華氏度)以下時(shí),氮?dú)獬煞謺?huì)開(kāi)始液化,從氣體狀...

  • 20241-16
    晶振片故障現(xiàn)象、原因及解決辦法

    探頭故障現(xiàn)象、原因及排除方法1、沉積期間厚度讀數(shù)大跳變a.不良晶片產(chǎn)生解決方案:更換晶片b.晶片接近其使用壽命解決方案:更換晶片c.晶片支承座表面有雜物解決方案:用酒精或細(xì)砂皮清洗支承座d.來(lái)自濺射源的頻率干涉解決方案:檢查接地,儀器遠(yuǎn)離濺射源2、沉積期間晶體停振,但晶片壽命未到a.晶片被來(lái)自鍍膜源熔化材料小熔滴撞擊解決方案:鍍膜起始階段用檔板遮蔽后移開(kāi)b.不良晶片解決方案:更換晶片c.晶片支承座內(nèi)腔表面有雜質(zhì)解決方案:清洗3、晶體在真空中振蕩,單暴露空氣后停振a.晶體接近使...

  • 20241-8
    直流負(fù)壓濺射和直流濺射有什么區(qū)別

    直流負(fù)壓濺射和直流濺射在直流濺射中,帶正電的離子被吸引到接地的、帶負(fù)電的濺射靶上,從靶材上濺射出原子,然后這些原子在樣品(也稱為襯底)上沉積形成薄膜。通常情況下,濺射靶被接到正極,而樣品端(襯底)被接到負(fù)極或接地。然而,有些情況下(如反濺射或偏壓濺射),樣品端會(huì)被接到正極以吸引多余的離子,從而實(shí)現(xiàn)清潔襯底表面或形成離子轟擊確保薄膜和基底的結(jié)合強(qiáng)度。這種電源連接方式可以提高薄膜的層內(nèi)應(yīng)力,改善其結(jié)晶性能,以及提高薄膜沉積效率。這種操作需要一定的注意事項(xiàng),因?yàn)闃悠范松细唠妷嚎赡軙?huì)...

  • 20241-4
    電學(xué)性能測(cè)試

    微型探針臺(tái)是一種可以在不同溫度下對(duì)材料進(jìn)行電學(xué)性能測(cè)試的設(shè)備,它有多種類型和應(yīng)用,主要用于科學(xué)研究和教育實(shí)驗(yàn)。微型探針臺(tái)的工作原理是通過(guò)探針與樣品接觸,形成電路,然后通過(guò)電學(xué)儀表測(cè)量樣品的電阻、電容、電流、電壓等參數(shù),從而分析材料的特性。微型探針臺(tái)可以測(cè)試不同尺寸和形狀的樣品,例如晶圓、芯片、封裝器件、光電器件、材料片等。微型探針臺(tái)是一種高精度、高效率、高靈活性的測(cè)試設(shè)備,對(duì)于推動(dòng)材料科學(xué)和半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展有重要作用。優(yōu)點(diǎn):體積小,便于搬運(yùn)和安裝。精度高,能夠?qū)ξ⒚准?jí)的樣品進(jìn)...

  • 202312-16
    蒸鍍儀加熱坩堝怎么選擇

    高溫蒸鍍的時(shí)候,靶材和坩堝應(yīng)該怎么選擇蒸鍍鍍鋁建議客戶用陶瓷坩堝:用鎢舟的話容易附著上邊且鋁融化后有一定的浸潤(rùn)會(huì)與鎢舟形成合金鎢舟容易脆裂斷開(kāi),鋁極易氧化可以多抽一會(huì)真空真空度越低效果越好蒸鍍鍍鎳建議客戶用鎢棒慘繞鎳絲,鎢舟很薄在一定溫度下化合生成合金相加速鎢的斷裂解決方案:用1.5-2mm的鎢棒長(zhǎng)度95-100中間10mm處繞高純鎳絲(纏繞緊密一些可慘繞2層)

  • 202311-25
    操作需謹(jǐn)慎!小型蒸鍍儀操作時(shí)需要注意這些

    小型蒸鍍儀的工作環(huán)境需要保持極低的氣壓,通常在10-4至10-7帕之間。這種低氣壓環(huán)境能夠有效減少氧氣和水蒸氣對(duì)材料表面的反應(yīng),從而避免蒸鍍過(guò)程中可能產(chǎn)生的氧化等不良反應(yīng)。真空系統(tǒng)通常由泵、閥門(mén)、壓力計(jì)和真空室等組成。小型蒸鍍儀的使用方法:1.準(zhǔn)備工作:先將蒸鍍儀所需的材料和設(shè)備準(zhǔn)備齊全,如鍍膜材料、基底材料、控制系統(tǒng)等。2.裝載基底:將待鍍膜的基底材料放置在蒸鍍儀的樣品臺(tái)上,確?;妆砻娓蓛羟覠o(wú)硬性顆粒。3.準(zhǔn)備鍍膜材料:根據(jù)實(shí)際需要,選擇合適的鍍膜材料,并將其放置在蒸鍍儀...

  • 202311-16
    等離子清洗機(jī)優(yōu)勢(shì)

    等離子清洗機(jī)的優(yōu)勢(shì):1:真空度:用皮拉尼原理測(cè)量精確到Pa,千帕是用壓力規(guī)測(cè)試,不是一個(gè)量級(jí)的。2:傳感器:用的進(jìn)口的氣體流量傳感器,是質(zhì)量流量計(jì)檢測(cè)氣體,精確度是通入流量的±1.5%。浮子流量計(jì),是滿量程的4%,而且浮子球是上下浮動(dòng),手碰一下亂跑,真實(shí)效果達(dá)不了那么高。4:功率是150W,國(guó)內(nèi)都是統(tǒng)一的。5:2路流量計(jì),質(zhì)量流量計(jì)采集更精準(zhǔn),流量控制2個(gè)精密針閥調(diào)節(jié),線性調(diào)節(jié)度較好。6:真空采集皮拉尼原理真空計(jì),測(cè)量大氣壓到0.1Pa的絕對(duì)真空。7:通過(guò)精準(zhǔn)的...

  • 202310-25
    在選購(gòu)小型濺射儀時(shí),可以考慮以下幾個(gè)因素

    小型濺射儀利用高能離子束轟擊靶材料,使其原子或分子從靶材料上解離,并沉積在基板表面上,形成覆蓋層。通過(guò)調(diào)節(jié)離子束的能量和強(qiáng)度,可以實(shí)現(xiàn)不同性質(zhì)的薄膜制備。這種技術(shù)被廣泛應(yīng)用于材料表面的改性和制備高質(zhì)量薄膜材料。主要用于制備薄膜材料,如金屬薄膜、氧化物薄膜等。這些薄膜具有良好的準(zhǔn)晶結(jié)構(gòu)和化學(xué)性質(zhì),廣泛應(yīng)用于光電子、信息技術(shù)、磁學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域。在選購(gòu)小型濺射儀時(shí),可以考慮以下幾個(gè)因素:1.薄膜材料種類:不同的型號(hào)適用于不同種類的薄膜材料,如金屬薄膜、氧化物薄膜、半導(dǎo)體材料等。...

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